Obducat: teknik mot genombrott!
Affärsidé, tekniker och produkter Obducats affärsidé är att utveckla och sälja systemlösningar för kostnadseffektiv massproduktion och analys av strukturer på nanometernivå. Obducats teknik för att replikera nanostrukturer är lika enkel som genial och är baserad på nanoimprintlitografi (NIL). Med en master (en stämpel tillverkad med en elektronstråleskrivare) ”trycks” helt enkelt ett godtyckligt mönster i en polymerfilm. Obducats NIL system är ett sk ”full area imprint” system, dvs. man trycker hela mönstret på substratet i ett enda tryck. Detta är betydligt svårare att åstadkomma än att använda sig av olika typer av ”step-and-repeat” tekniker som de flesta av Obducats konkurrenter anammar, där man istället trycker ett betydligt mindre område åt gången. För att kunna trycka en hel yta (en wafer) måste man upprepa detta steg omkring 100-200 gånger beroende på storleken på stämpeln. Ett av Obducats patent (man har totalt 112 patent) gäller tekniken Soft Press Technology, vilken möjliggör replikering av ett mönster över en mycket stor yta i ett enda tryck, detta med bibehållen precision som är minst lika hög som konkurrenternas. Två andra patenterade nyckelteknologier är STU (Simultaneous Thermal and UV imprint) vilket medger bla. snabbare tryck och IPS (Intermediate Polymer Stamp) som minimerar problemet med partiklar som annars kan skada stämpeln och därmed efterföljande replikering. Deras teknik har en avsevärt högre prestanda än konkurrenterna. Man kan till exempel trycka upp till 90 8” wafers per timme med bibehållen upplösning om <50nm. Något som kan jämföras med den främsta konkurrenten Molecular Imprints nya Imprio 1100 maskin, som klarar ca 20 wafers/timme, men då endast med wafers på 4” i storlek. ...